2026年卒キヤノンの総合職の選考対策情報詳細 (非公開/性別非公開) (2025/05/02公開)

面接・選考フロー・ES・志望動機

26年卒

理系

性別非公開

学校名

：

非公開

職種

：

総合職

年

2025

2026

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志望動機

私は高精度な製造技術を追求し，最先端のものづくりに貢献したいと考えている．私は大学で，光学系のレンズを使用して精密なデータを取得する経験を積んできた．この中で，高精度な加工技術とその成果物が研究において重要な役割を果たしていることを実感すると同時に，それを支える製品への興味が深まった．また貴社のインターンシップを通じて，他社と比べても極めて幅広い業務に携われると感じた．こうした環境は常に挑戦できる環境であり，とても魅力的だと感じた．将来的には，高精度な加工技術や測定技術のさらなる進化に貢献し，より高度な光学機器の製造を実現したいと考えている．貴社は長年にわたり卓越した技術力を発揮してきており，レンズの形状や性能が製品の品質に大きく寄与する分野において，極めて高度な精度を実現している点に魅力を感じている．また，これらの技術を支える生産装置の開発は材料，設計など多岐にわたる専門知識を融合する必要があり，非常に挑戦的かつ魅力的な分野だと考えている．貴社の環境で，光学機器の製造設備やプロセス開発に携わることで，自身の専門性を高めながら，最先端のものづくりに貢献できると考え，志望した．

本選考前活動

インターンシップの参加: 参加した
インターンシップの参加時期: 2025年02月上旬（複数days）
業界研究・企業研究はどんな風にしましたか？: 会社のホームページを参考にした．
セミナー・説明会の参加: 参加した
セミナー・説明会の実施形式: オンライン（顔出し無し）
選考とは関係あるものでしたか？: 関係なかった
どんな服装で参加しましたか？: カジュアル
OB・OG訪問: 訪問しなかった
リクルーター面談: 面談しなかった

エントリーシート

提出時期: 2025年02月中旬
提出方法: 企業HP
ESで聞かれた質問: 将来、あなたが技術者として実現したいことを、なぜキヤノンを志望するか
を踏まえて教えてください。
ESの質問の回答: 私は高精度な製造技術を追求し，最先端のものづくりに貢献したいと考えている．私は大学で，光学系のレンズを使用して精密なデータを取得する経験を積んできた．この中で，高精度な加工技術とその成果物が研究において重要な役割を果たしていることを実感すると同時に，それを支える製品への興味が深まった．また貴社のインターンシップを通じて，他社と比べても極めて幅広い業務に携われると感じた．こうした環境は常に挑戦できる環境であり，とても魅力的だと感じた．将来的には，高精度な加工技術や測定技術のさらなる進化に貢献し，より高度な光学機器の製造を実現したいと考えている．貴社は長年にわたり卓越した技術力を発揮してきており，レンズの形状や性能が製品の品質に大きく寄与する分野において，極めて高度な精度を実現している点に魅力を感じている．また，これらの技術を支える生産装置の開発は材料，設計など多岐にわたる専門知識を融合する必要があり，非常に挑戦的かつ魅力的な分野だと考えている．貴社の環境で，光学機器の製造設備やプロセス開発に携わることで，自身の専門性を高めながら，最先端のものづくりに貢献できると考え，志望した．
ESで聞かれた質問: あなたの強みを教えてください。また、それが発揮されたエピソードを教えてください。
（貴方の取った行動が判るようにお書きください。）
ESの質問の回答: 私の強みは，課題を分析し，周囲を巻き込みながら解決策を実行する力である．私は学習塾でのアルバイトにおいて，生徒の勉強意欲にばらつきがあるという課題に対し改善に取り組んだ．まず，生徒たちが楽しみながら学ぶことが重要だと考え，塾長と相談して満点の問題用紙と景品を交換する制度を導入した．さらに，自発的な学習姿勢を促すために，生徒と積極的にコミュニケーションを取り，質問しやすい環境を整えることを意識した．この取り組みにより，生徒たちは積極的に質問するようになり，満点の解答も増加した．結果として，塾全体の勉強意欲が向上し，前向きに学習に取り組む生徒が増えたことを実感した．この経験を通じて，私は現状の課題を見極め，解決策を考え，実行する力を磨くことができた．今後もこの強みを活かし，技術者として課題解決に貢献していきたいと考えている．
ESで聞かれた質問: 現在の研究テーマの概要を教えてください。
ESの質問の回答: プラズマから発せられる光を計測することで輻射捕獲という現象の定量評価を行っている．プラズマ光源の状態を知るうえで温度，密度の情報は非常に重要である．その情報を知る1つの手法としてプラズマ発光分光計測という手法が用いられている．しかし，プラズマから発生する光は計測に使うカメラに届くまでに輻射捕獲による吸収の効果を受ける．その結果，観測対象としているプラズマパラメータを正しく評価できない場合がある．私はプラズマを発生させる真空容器内に輻射捕獲の起きる領域の長さ(吸収長さ)を変えることができる機構を設計し，吸収長さを変えて発光を計測することで輻射捕獲の定量評価を行っている．
ESで聞かれた質問: あなたが現在取り組んでいる研究テーマにおいて、最も関係性が深い『技術キーワード』を３つ教えて下さい。
ESの質問の回答: プラズマ
発光分光計測
光学
ESで聞かれた質問: 研究における現在の課題を教えてください。
ESの質問の回答: 現在の課題としてプラズマを安定して発生させることができず，同じ実験条件での結果を十分な回数とれていないことである．プラズマを発生させる際の放電電流値を上げるほど発光が強くなり，輻射捕獲の影響がより顕著になる．一方で，装置の温度が上昇し，水冷用の水を漏れないように防いでいるOリングが溶けてしまい，水漏れが発生してしまう．その結果実験を中断することになり，多くの試行回数を積むことができていない．
ESで聞かれた質問: その課題をどのように解決しようとしているか、教えてください
ESの質問の回答: 現状の課題に対し，Oリングの温度ができるだけ上昇しないような機構設計を試みている．現在のOリングはプラズマを囲うような位置に設置されている．そのためOリングの半径を増やし，プラズマからより離れた位置に設置することで水漏れが発生しないようにしている．また，水を流しているチラーの流量をより増加せることで水温が常に低い状態を維持できるようにしている．
ESで聞かれた質問: 研究で成果を出すために、最も大切にしていることを教えてください。
ESの質問の回答: アプリを活用し，常に実験状況を教授と共有することで，情報の行き違いを防ぎ，円滑な進行を心がけている．

テスト

適性検査・テストの有無: あった
適性検査・テストの実施時期: 2025年02月中旬
適性検査・テストの種類: SPI
適性検査・テストの形式: テストセンター

二次選考

選考時期: 2025年03月上旬
選考形式: 単独面接
実施形式: 対面
面接官の人数: 2人
選考担当者の特徴 （役職・肩書き・入社年次など）: 人事1人，技術系1人
選考の雰囲気: 普通
質問内容・課題: 自己PR
自分の強み/弱み
周りからどんな人といわれる？
ガクチカ（学生時代に力を入れたこと）
チームで協力した出来事
授業やゼミ、卒論について
志望動機
就活の軸/志望業界とその理由
入社後にしたいこと/キャリアプラン
逆質問
注意した点・感想: 研究内容のプレゼンテーションは専門知識がない人でもわかるような内容にした．具体的な取り組みとしては大学の友人に対し，プレゼン練習を行い，理解できる内容か確認した．また志望度に関してもかなり深堀されたため，質問に対し結論ファーストかつ簡潔に回答することを心掛けた．入念な志望理由の準備が合否を大きく分けると感じた．
選考の所要時間: 31~45分

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