2017年卒キヤノンの志望動機詳細（東京都立大学大学院/男性）（公開）

実際に企業に提出した志望動機

17年卒

理系

男性

学校名

：

東京都立大学大学院

職種

：

非公開

志望動機

半導体製造装置の開発、なかでも未来の高度情報化社会に必要不可欠な次世代技術であるナノインプリント技術の開発に関わりたいと考えています。その理由は、今や半導体チップは家電製品から自動車等、私達の生活を支えるあらゆる製品には欠かせないためです。しかし今後、半導体チップの付加価値を高めるためには回路パターンの微細化が求められています。貴社においても、光を使って回路を焼きつける半導体露光装置の開発が行われていますが、従来手法では技術的な限界が近いと考えられます。
　しかし貴社は、これまで半導体露光装置で培った技術ならびにプリンタの製造で培った高精度な位置制御技術に強みがあり、これらとナノインプリント技術を組み合わせることで露光による既存の製造プロセスでは不可能である、高度な微細加工を世界に先駆け実現できると考えられます。私は大学の授業で半導体の微細パターンに感動して以来、微細加工の研究に着手しており、貴社において自身の専門性を積極的に発揮することでナノインプリント技術における課題解決に貢献し、次世代の製造装置の製品化に向けて全力を尽くしたいです。

感謝3

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